兵进光刻机，中国芯片血勇突围战

变成的雷射光还要经过一段复杂的照明光学系统，目的是将雷射光整形成需要的样子，然后通过光罩来成像。

▲图自ASML官方

这里有一点，前面我们说的，过去的光刻机是光线穿透光罩成像，像幻灯机一样。

但是极紫外光不一样，它很脆弱，会被光罩的材料吸收。这是个难点，对光学系统的要求极高。

为了避免极紫外光被吸收，EUV光刻机中，必须使用反射式光罩来成像。

EUV光刻机的原理基本就是这样。说起来简单，但实际有很多难点：

首先，如何让雷射准确击中锡液滴？而且是前脉冲和主脉冲能够击中锡液滴2次，同时每秒钟击50000次。怎么样，吓人吧。

再就是刚才说的，EUV光产生后，还需要经过复杂的光学系统，怎么样让光不被光学镜片吸收，保证转换效率？这需要极端强大的光学技术支持。

还有一个问题是电源，目前的电源无法产生足够的功率让EUV大幅度提高效率。

然后，还有光刻胶光阻的敏感度、光子散射噪音引起的随机现象等，都是EUV光刻机面临的问题。

有数据说，每台EUV光刻机有超过10万个零件、3千条电线、4万个螺栓、2公里长的软管等零组件，最大重量达180公吨。

制造难度可想而知。

这样一台光刻机多少钱呢？

根据媒体报道，此前中芯国际订购的EUV光刻机是1.2亿美元，相当于人民币8亿多元，而先进的EUV光刻机可以达到1.5亿美元，约合人民币10亿元！这比美国第四代战斗机F35的价格还贵！

虽然这么贵，但想买EUV光刻机还不止是钱的问题，关键是它的产量极低，ASML一年也就能生产十几到二十台EUV光刻机，全球那么多半导体企业，争破头皮也不一定买得到。

七、ASML，舍我其谁的背后

那么ASML凭什么能造出这种设备呢？

（编辑：应用网_阳江站长网）

【声明】本站内容均来自网络，其相关言论仅代表作者个人观点，不代表本站立场。若无意侵犯到您的权利，请及时与联系站长删除相关内容!