荷兰半导体明珠 ASML 是如何炼成的?
但是研制出一台真正的 EUV 光刻机则并不容易,最终能否研制成果也还存在着巨大的不确定性。从 2005 年到 2010 年,ASML 花费 5 年时间,跨越了资金、技术等诸多难题,才终于生产出第一台型号为 NXE3100 的 EUV 光刻机,并交付给台积电投入使用。 (ASML 最新 EUV 光刻机 TWINSCAN NXE3400C) 接下来,整个高端光刻机领域就成了 ASML 的独角戏。此后几年经过一系列技术并购和升级,ASML 又在 2016 年推出首台可量产的最先进 EUV 光刻机 NXE3400B 并获得订单,从 2017 年第二季度起开始出货,售价约为每台 1.2 亿美元,成为台积电、三星、英特尔等排队抢购的爆款设备。 从 1997 年到 2010 年,ASML 历经 13 年时间,终于成为了光刻机产业的 " 头号玩家 "。2010 年至今,ASML 更是所向披靡,牢牢占据高端 EUV 市场的技术高地,至今再无对手。 创新视野和变革勇气,ASML 后发制人的根底 从 ASML 数次关键选择中,我们既能看到外在机遇的青睐,也能看到其自身所具有的特质。正是 ASML 从无到有,从弱到强的发展过程中,保持了灵活性、创新性以及敏锐的战略眼光与勇敢投入,才使其能够在劲敌环伺的光刻机产业当中生存壮大。 今天来看,ASML 的发展过程可以分为三个阶段:1894 年诞生到 1995 年上市的生存发展期,1995 年到 2007 年的逆袭赶超期,2007 年至今的领先称霸期。 在第一个阶段,缺钱一直是 ASML 发展的瓶颈。1988 年,ASML 进军台湾市场时,曾经因为两位老东家的撤资一度濒临破产。幸好后来时任 CEO 的 Smit 向飞利浦董事会 " 化缘 " 了 1 亿美元,才幸运度过了难关。靠着这笔救命钱,ASML 在台湾市场站稳脚跟。随后几年 ASML 步进式扫描光刻机的热销扭亏为盈,度过了艰苦创业的十年岁月。 在第二个阶段,上市之后的 ASML 一定程度解决了资金困境,而两次关键的选择,则帮助其完成了对尼康的逆袭。 在加入美国能源部主导的 EUV LLC 联盟的过程中,除了英特尔的从中牵线以及美国政府对于日本半导体产业的忌惮和对尼康的不信任这些外在因素,ASML 的积极斡旋和主动示好,才是其能进入美国核心技术领地的关键。 ASML 当时做了两件事情,一是愿意出资在美国建厂和研究中心,二是保证 55% 的原材料都从美国采购,相当于无条件 " 投诚 " 美国,终于换来美国政府的信任。 当然,ASML 所在的国家荷兰,因为本身的地缘位置和国家实力,使得美国政府不用过于担心核心技术被 ASML 掌握而无法控制的局面。而 ASML 的全球化的战略视野以及灵活性的合作政策,也是其能获得美国信任的关键。 而在浸润式光刻技术路线的选择上,则更能看出作为后进生的 ASML 的灵活、务实和敢于尝鲜的勇气,明智地选择了浸润式光刻技术,反而是过于强调自主研发的尼康,败在了路径依赖的大企业的窠臼当中。 第三阶段,由于在加入 EUV LLC 联盟后获得了 EUV 技术的研究成果,取得市场领先的 ASML 又全力投入到 EUV 光刻机的研发上面,成为引领光刻机发展方向的那只 " 头雁 "。 为突破技术难题,ASML 又联合了 3 所大学、10 个研究所、15 家公司,开展 "More Moore" 项目,着力进行技术攻坚。 为解决资金困境,ASML 在 2012 年提出一项 " 客户联合投资计划 "(CCIP),也就是 ASML 的客户可以通过注资,成为股东并拥有优先订货权。这一计划立刻得到芯片制造行业的三巨头英特尔、台积电和三星的响应,一共投入数十亿欧元支持 EUV 光刻机的研发。 这一举措无疑实现了双赢的局面。ASML 将研发资金的压力转移了出去,让头部客户为 EUV 光刻技术研发买单;同时又确保了客户对先进光刻技术的优先使用权和股权收益。至此 ASML 与其大客户形成了一个利益共同体,共担风险,共享回报,维持了 EUV 光科技术的稳步迭代。 (赛迪智库整理:ASML 上下游产业链) ASML 的成功,还离不开一直以来对于上游产业链的持续投资并购,来构建完整的上游供应链,以攫取技术上的领先优势。 2001 年收购美国光刻机巨头硅谷集团(SVGL),获得当时新一代 157nm 激光所需的反折射镜头技术,推动了市场份额快速提升。2007 年,其收购美国 Brion 公司,又奠定其光刻机产品整体战略的基石。 在 CCIP 计划之后,ASML 又收购了全球领先的准分子激光器厂商 Cymer,获得了 EUV 最需要的先进光源技术;此后又收购了电子束检测设备商 HMI,以及入股了光学镜头领头的卡尔蔡司。由此 ASML 构建起完整的上游供应链,获得了布局 EUV 光刻机的领先技术。 此外,就是 ASML 在研发上面不惜重金投入,并且依托自身资源和技术积累,与众多研究机构、学校和外部技术合作伙伴一起,建立了一个巨大的开放式研究机构,共享全球前沿技术知识和能力。 在研究合作上面,ASML 与卡尔蔡司、Cadence 建立长期合作,与世界著名研究创新中心 IMEC 展开 EUV 光科技术的合作。 在研发投入上面,ASML 近五年的研发投入都保持在营收的 13%-20% 之间,其中,2019 年度,阿斯麦投入了 20 亿欧元用于技术研发,占到净销售额(118.2 亿欧元)的 16.9%。 正是在 ASML 不断地研发投入、积极向外寻求资金、研发技术支持,并且带动下游客户共同投资参与,才最终推动了 EUV 技术的研发进程,成为全球唯一一家能够设计和制造 EUV 光刻机设备的独家垄断者。 光刻机的 " 窄道 ",ASML 的成功难以复制? 光刻机技术发展到今天 EUV 时代,已经进入一个全球化高度分工、前沿技术高度聚集、资本高度密集,甚至政治化高度博弈的局势。 (编辑:应用网_阳江站长网) 【声明】本站内容均来自网络,其相关言论仅代表作者个人观点,不代表本站立场。若无意侵犯到您的权利,请及时与联系站长删除相关内容! |