三星取得技术突破，EUV光刻胶自研成功 击碎 日企的垄断梦
发布时间：2021-12-23 13:11:44 所属栏目：通讯 来源：互联网
导读：在晶圆制造过程中，光刻胶起到至关重要的作用，光刻胶优质与否，将直接影响到芯片的性能，同时，也会影响芯片最终的良品率。 根据笔者了解，光刻胶主要分为G线、I线、KrF、ArF以及EUV这几种类型，在芯片光刻过程中，不同的芯片种类将适配不同的光刻胶。 日
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在晶圆制造过程中，光刻胶起到至关重要的作用，光刻胶优质与否，将直接影响到芯片的性能，同时，也会影响芯片最终的良品率。 根据笔者了解，光刻胶主要分为G线、I线、KrF、ArF以及EUV这几种类型，在芯片光刻过程中，不同的芯片种类将适配不同的光刻胶。 日本企业垄断光刻胶市场 就目前光刻胶市场来看，主要被日本厂商所垄断。公开数据显示，日本的JSR、东京应化、信越化学以及富士胶片占据了全球70%以上的市场份额，而在高端光刻胶领域，日本企业更是处于绝对垄断的地位。 事实上，不只是光刻胶产品，在芯片生产所需的19种必要的半导体材料中，日本企业在这其中的14种材料中，处于绝对的领先优势。 毫不客气地说，无论是我国的芯片制造企业，还是欧美的芯片制造企业，所需要的半导体材料，都很难绕开日本企业。 三星自研EUV光刻胶成功 对于不少芯片制造企业而言，高度依赖日本半导体材料企业并不是好事。所以，强如三星最终也走上了自研光刻胶的道路，并取得了一定的突破。 12月20日快科技消息，三星电子与东进半导体合作，成功开发出EUV光刻胶产品，并通过了可靠性的测试。 要知道，EUV光刻胶属于比较高端的光刻胶产品，其主要应用于较为先进的芯片制造过程中，比如制造7nm以下节点的芯片，在光刻过程中便需要搭配最先进的EUV光刻胶。 “击碎”日企垄断梦 三星成功自研出EUV光刻胶可谓是意义重大。 首先对于韩国半导体产业而言，光刻胶产品将不再受到日本企业的限制。 要知道，在2019年的时候，日本曾对韩国限制了半导体材料的出口，EUV光刻胶便是被限制的材料之一，虽然当时韩国也在努力攻克限制，但最终依旧很难摆脱日本企业在光刻胶领域的垄断。 如今，三星在EUV光刻胶方面取得巨大成功，彻底击碎了日本企业垄断光刻胶市场的梦想，让韩国半导体产业拥有一个相对比较健康的发展环境。 其次，对于三星本身而言。众所周知，三星是全球排名第二的芯片代工企业，其技术实力更是并肩台积电，已经达到了4nm工艺节点。 所以，光刻胶对于三星电子的重要性也就不言而喻，并且，随着三星芯片制造技术的不断提升，对于光刻胶的要求也就越高。 如果长时间高度依赖日本光刻胶企业，显然对三星芯片制造产业的发展并不利，好在其最终实现了高端光刻胶的自给自足。 不仅如此，自2021年以来全球缺芯愈演愈烈，各大芯片制造企业的产能几乎都处在满载状态，对于光刻胶的需求量也在急剧攀升，日本相关企业可谓是赚得盆满钵满，甚至还出现供不应求的状态。 在此背景下，部分芯片制造企业因为无法获得足够的光刻胶产品，很难提升芯片产能，客户订单也只能拱手相让。 对于三星来说，上述情况将不会出现，因为EUV光刻胶的研发成功，也就意味着，三星拥有光刻胶自主可控的能力，不怕受到上游企业的限制。 写到最后 就目前来看，三星研发的EUV光刻胶产品只是成功通过了测试，距离量产时间还不确定，而且，三星和东进半导体对此并未表态。 总的来说，三星已经在EUV光刻胶方面取得成功，量产只是时间问题。 （编辑：应用网_阳江站长网） 【声明】本站内容均来自网络，其相关言论仅代表作者个人观点，不代表本站立场。若无意侵犯到您的权利，请及时与联系站长删除相关内容! |
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