EUV光刻机是中国半导体行业的唯一症结吗？

中国光学学会秘书长、浙江大学教授、现代光学仪器国家重点实验室主任刘旭在第四届国际光刻技术研讨会上就表示：“中国半导体的发展不是一个简单的问题，不要把一个很复杂的全行业问题变成只有一个局部点上的问题，重要的问题不等于唯一的问题。”

此外，对于中国半导体行业与其他先进国家的差距，刘旭教授还认为：“一些器件的设计和制造，非常考验基础工业实力，很多时候基于同样的原理，别人能做好，我们做不好，实质上是我们缺乏对基础的理解和对材料极限特性的理解。”

同时，对于是否应该建立中国自己的半导体行业体系，刘旭教授表示，半导体产业建设不应该一拥而上，而应该找到合适的技术、合适的人在合适的时间去做这件事，之后国家才有可能将其凑成一条线，目前半导体行业的热不一定是一件是好事，很可能造成资源的浪费，需要警惕一些利益团队借此机会掠夺社会资源。

小结

近一两年来，半导体行业火热，以EUV光刻机为代表的关键技术备受社会关注，有声音认为只要我们能够自己制造出一台EUV光刻机，国内半导体产业发展问题就基本解决，但事实并非如此。EUV光刻机只不过是中国半导体产业发展路上需要解决的问题的一个缩影，重要的，但绝非唯一的问题。

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（编辑：应用网_阳江站长网）

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