全球EUV光刻专利哪家强？三星超过ASML 蔡司才是第一

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据报道，在2011到2020年的专利申请中，向韩国知识产权局(KIPO)提交的与EUV光刻相关的专利申请数量达到88件的峰值，2018年达到55件，2019年达到50件。

其中2019年中韩国本土公司提出的EUV专利申请为40件，超过了国外10件，这也是韩国提交的EUV专利首次超过国外公司。

在2020年中，韩国公司提交的EUV专利申请达到了国外的2倍多，其中三星公司是最多的，该公司今年已经开始使用5nm EUV工艺生产手机处理器。

从全球来看，TOP6的厂商申请的EUV专利占了全部的59%，其中卡尔蔡司占比18%（毕竟光学物镜是EUV核心），位列第一，三星紧随其后，专利申请占比18%，ASML公司占比11%，位列第三。

再往下，韩国S&S Tech占了85，台积电占了6%，SK海力士占了1%。

从具体技术项目看，工艺技术申请专利占32%，曝光装置技术申请专利占31%，掩膜技术申请专利占28%，其他申请专利占9%。

在工艺技术领域，三星电子占39%，台积电占15%。

在光罩领域，韩国S&S科技占28%，日本Hoya占15%，韩国汉阳大学占10%，日本朝日玻璃占10%，三星电子占9%。

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（编辑：应用网_阳江站长网）

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