全球首台！苏大维格大型紫外 3D 直写光刻设备 iGrapher3000 投入运行

苏大维格科技称，iGrapher3000 为新颖光电子材料与功能器件的研究和产业创新，开辟了新通道。主要用于大尺寸光电子器件、超构表面材料、功能光电子器件等在内的微纳形貌和深结构的制备，包括大尺寸透明电路图形、高精度柔性触控传感器、高亮投影屏、全息 3D 显示、MiniLED 电路背板、高光效匀光板、虚实融合光子器件、大口径透明电磁屏蔽材料等。

iGrapher3000 也可用于平板显示产业和柔性电子产业的光掩模制备，并为高精度大口径薄膜透镜的设计制备提供了战略研发资源。

下图为大尺寸柔性导电材料、大尺寸光场调控器件和大型 miniLED 背光的微电路背板。

大尺寸柔性触控屏的微电路 3D 光刻制备

miniLED 高光效匀光板、大口径投影屏的 3D 光刻制备

大尺寸 miniLED 背板与透明立体显示屏的 3D 光刻制备

官方介绍，苏大维格光刻仪器事业部在光刻技术与设备领域研制了多种用于 MEMS 芯片的光刻设备 MiScan200（8”~12”）、微纳光学的 MicroLab（4”~8”）和超表面、裸眼 3D 显示、光电子器件研究的纳米光刻设备 NanoCrystal（8”~32”）。这些新型光刻设备在企业和高等院所广泛应用，解决了我国多个领域研究中的卡脖子问题，为新型光电子器件、新材料、MEMS 芯片和传感器件的研发提供了自主可控的先进手段。

2020 年 1 月 10 日，在国家科技奖励大会上，苏大维格承担的 “面向柔性光电子的微纳制造关键技术与应用”成果，荣获国家科技进步奖二等奖。

（编辑：应用网_阳江站长网）

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